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Bake Lighting窗口

Bake Lighting是包含所有轻度烘焙任务的工具。它用于以下操作:

Bake Lighting工具使您可以通过减少大部分的光影计算来提高性能。

注意
要打开Bake Lighting窗口,请在菜单栏中选择Tools -> Bake Lighting

Bake Lighting Tool

也可以看看#

工作流程#

基本上,如果场景中存在以下至少一个实体,则可以进行轻度烘烤:

要烘烤照明,请执行以下步骤:

  1. 准备场景:设置照明和发光几何体,选择灯光烘焙模式,通过遮罩和/或调整表面来隐藏或排除计算中不必要和动态的对象标志,启用光照贴图,然后为要进行光照贴图的网格静态对象的表面选择 光照贴图模式
  2. 在灯光保持相对静止的地方(例如室内,室外建筑物和不动的物体)创建并放置体素探针。为体素探针选择 “烘焙内部体积” 模式,以照亮在其体积内移动的动态对象。( br)
    注意
    将体素探针放置在其他体素探针内部,以创建定义需要更高细节的区域的插图。请注意,启用了添加剂混合模式的体素探针不能用于此目的,因为它们被混合而不是彼此替换。
  3. 创建非动态环境探针,并覆盖需要在反射材料上进行适当反射的区域。
    注意
    禁用探针的通过烘焙照明抓取参数,该立方体贴图纹理不应由烘焙照明工具修改。这适用于您不想修改资产的情况。
  4. 调整探针的Baking Settingssettings of the Bake Lighting tool.
  5. 单击Bake以开始对所有启用的对象和光源进行光烘焙(或单击Bake selected lights以仅影响选定的对象和光源),并等待该过程完成。

    在此阶段,“烘焙照明”工具执行以下操作:

    所有生成的纹理将保存到数据项目文件夹的bake_lighting文件夹中。

    注意
    您可以随时停止该过程,并且将提示您保持所获得的结果或恢复以前的纹理。
  6. 启用发布和相机效果。

烘烤照明设置#

Bake Static Shadows For Lights#

Bake Static Shadows For Lights 为静态光源启用缓存阴影的烘焙。
Automatic Rebake 在转换静态光源或更改其参数时启用阴影的自动重烤。

Bake Lightmaps For Surfaces#

Bake Lightmaps For Surfaces 启用表面的光照贴图的烘焙。
Baking Viewport Masks 为了使光线或表面有助于静态GI,其视口蒙版应与Baking Viewport Mask相匹配。
Quality 烘焙质量预设。
Far Clipping 光线的远剪切距离。

Bake Voxel Probes#

Bake Voxel Probes 启用基于体素的GI 到体素探针的烘焙。
Voxel Size Multiplier 每个体素探针的Voxel Size参数的乘数。

Bake Environment Probes#

Bake Environment Probes 启用将反射立方体贴图烘焙到环境探针的功能。
Automatic Rebake 在转换Environment Probe或更改其参数时启用自动重烤

Common Settings#

Number of Bounces 光线反弹的次数。
Samples per Frame 每帧同时处理和可视化的采样单位数(用于光照贴图的样本和用于Voxel Probes的体素的样本):
  • Auto-自动调整样品数量以优化烘焙过程的性能。
  • Manual-样本数量是手动设置的。
注意
该参数可在烘焙过程中更改。较高的值会导致较长的用户界面响应,但会加快计算速度。

进度条#

注意
在轻度烘烤过程中显示以下进度条。
Node/Surface 目前,当前节点/曲面的光烘焙进度。
Bounce 计算当前反弹的进度。
Overall 场景中所有节点的光烘焙的总体进度。

纽扣#

Bake Selected 开始烘焙选定的静态灯,探针和光照贴图表面,无论它们是否启用。
Bake/Stop 开始烘焙场景中所有启用了 的静态灯,探测器和光照贴图的表面。
最新更新: 2021-04-29
Build: ()