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Environment Probe

Environment Probe是一种光源,它也可以通过使用立方体贴图(预烘焙或动态更改每帧)在探针内部的对象上提供反射。在UNIGINE中,Environment Probe具有两种类型的投影:

  • 盒子投影-适用于室内场景(房间为3D盒子形状)或盒子形状的户外场景(建筑物之间的后巷)。
  • 球形投影-在所有其他情况下(汽车,球形房间等的反射)效果更好。

使用Environment Probe,您可以创建反射而不是创建反射材料。

注意
默认情况下,Environment Probe仅用于反射。至于照明,建议使用Voxel Probe光照贴图。这种方法可确保获得最佳结果,但是您仍然可以使用Environment Probe进行环境照明

也可以看看#

概述#

Environment Probe对于提高性能,减少材料数量以及使内容设计者的生活更加轻松是一件好事。

Environment Probe使用烘焙(或用特殊工具抓取)的立方体贴图。立方体贴图将扮演反射和灯光模拟的角色。这是一个例子:

我们有两间内部颜色不同的房屋,并将相同的物体(例如反射材料,例如金属)放入这些房屋中。会发生什么?

如果我们不谈论动态反射,则需要反射每个对象的内部。但是内部具有不同的环境颜色,这就是为什么您需要为它们创建2种不同的材料的原因。根本没有优化。

Environment Probe消除了此缺陷。添加对象后,便无需考虑其反射材料。 Environment Probe将立方体贴图映射到对象。

将立方体贴图映射到透明和非透明对象有一个区别:

  • 如果对象是透明的,则仅当整个对象在Environment Probe的半径内时,Environment Probe才会映射立方体贴图。否则,该对象将完全不受Environment Probe的影响。
  • 如果对象是非透明的,则Environment Probe会将立方体贴图映射到对象半径在探针半径内的任何部分。
透明对象受Environment Probe影响
Environment Probe影响的非透明对象

如果您放置几个影响非透明对象的Environment Probe节点(在延期通行证)他们的立方体贴图将被平滑地融合。这是一个示例,一条长长的走廊上有涂有不同颜色的墙壁。

我们放置了两个Environment Probe节点,它们都影响对象(当对象位于交叉区域中时)。如果位置较大,则应使用多个Environment Probe节点而不是一个,以使最终图像更加逼真。

SSR(屏幕空间反射)效果使最终图像更加逼真,因为它附加了无法烘焙到立方体贴图中的反射。使用Environment ProbeSSR是通过动态照明非常快速地模仿反射的好方法。

透明对象的多环境探针#

为透明对象设置的Multiple Environment Probes选项(在前传)允许多个Environment Probe节点影响对象并将其多维数据集映射到该对象。

  • 禁用该选项时,只有最后设置的Environment Probe会影响该对象。那时,整个对象必须在Environment Probe的半径内。否则,它将完全不受此Environment Probe的影响。
  • 启用该选项后,对象将被整个Environment Probe照亮:每个探针都会影响对象的一部分,该部分位于探针内部。 Environment Probe节点的立方体贴图将在交叉区域混合。
注意
必须通过Rendering -> Transparent -> Multiple Environment Probes启用多个Environment Probe节点的渲染。
Multiple Environment Probes已关闭:仅左侧立方体贴图已映射到对象
Multiple Environment Probes启用:映射和混合两个立方体贴图

添加环境探针#

要通过UnigineEditor将Environment Probe节点添加到场景中,请执行以下操作:

  1. 跑步UnigineEditor的项目。
  2. 在菜单栏上,单击Create -> Lights,然后选择Environment Probe所需的形状:框或球体。这投影形状通过Parameters窗口创建后可以对其进行更改。

  3. 放置Environment Probe
  4. 抓取Environment Probe的立方体贴图纹理。您可以通过Parameters窗口来抓取它,也可以使用Bake Lighting工具。
  5. 调整Environment Probe设定
注意
  • 您不能将实时灯光(Omni Light, Projected Light等)烘烤为Environment Probe。最好的办法是用发光材料代替光来放置球体,调整发射强度,然后烘烤照明。但是,结果看起来比实时照明的效果要差。
  • 使用Bake to Environment Probes选项定义曲面是否应将其反射烘焙为Environment Probe

在UnigineEditor视口中选择Environment Probe时,参考球将在探针中心可视化:

  • 反射球有助于估计探头提供的反射。
  • 扩散球体有助于估计探头提供的环境照明(要求周围启用照明)。

环境探针设置#

可以在Parameters窗口的Node选项卡中找到Environment Probe设置。此标签同时包含所有光源的参数以及特定于Environment Probe的参数。具体参数说明如下。

常用参数#

Projection Shape

Environment Probe使用的投影形状类型:

  • 盒子投影-适用于室内场景(房间为3D盒子形状)或盒子形状的户外场景(建筑物之间的后巷)。
  • 球形投影-在所有其他情况下(汽车,球形房间等的反射)效果更好。
Box Projection Size 指定框投影的大小。
Attenuation Power 设置衰减功率为光。
Attenuation Distance 设置衰减距离为光。

渲染参数#

Color 设置灯光颜色格式为RGBA。颜色定义了虚拟表示的合理性及其美学成分。
Intensity

设置灯光颜色乘数,它可以很好地控制发射光的颜色强度:

  • 最小值1对应于最小的饱和光颜色。
  • 100的最大值等于最明亮和最强烈的颜色。
Shadow Mask Shadow遮罩控制由光源照亮的对象投射的阴影的渲染。
Viewport Mask 设置灯光的Viewport蒙版。
Visibility Distance 距相机的距离(以单位为单位),直到渲染Environment Probe为止。
Fade Distance 距相机的距离(以单位为单位),从该距离开始,Environment Probe开始逐渐消失。
Render Water 在水上渲染Environment Probe
Render Transparent 在透明对象上渲染Environment Probe
Use Sun Color

发挥影响太阳光色Environment Probe

注意
启用后,此选项可使Environment Probe颜色在夜间变为黑色,而在日落时变为橙色。
Additive Blending 启用Environment Probe的加性混合模式。此选项在照明和反射控制方面提供了更大的灵活性。您可以使用它将多个Environment Probe节点的照明和反射混合在一起并分别控制它们.

环境参数#

Enabled Environment Probe启用环境绑定。默认情况下,Environment Probe仅用于反射;默认为0。至于照明,建议使用Voxel Probe光照贴图。这种方法可确保获得最佳效果,但是通过启用此选项,您仍然可以将Environment Probe用于环境照明。
Global Illumination

启用全局照明模拟。 Environment Probe通过使用给定的多维数据集映射生成伪造的GI。

注意
此参数可用于盒子投影只要。
Contrast 设置环境照明的对比度。

反射参数#

Gloss Corners

设置框投影角附近的反射光泽强度。

注意
此参数可用于盒子投影只要。
Parallax

Parallax校正功能可以在考虑相机位置的情况下渲染反射。禁用此选项时,反射立方体贴图仅投影到对象上,并且不遵循查看者的角度。

  • 0(最小值)—禁用视差校正(反射看起来像对象是无限远的)。
  • 1(最大值)-启用视差校正(反射看起来像对象的距离接近Environment Probe的半径)。
  • 中间的值表示用于视差校正的线性插值因子,并且在必要时将Environment Probe用于将中型或小型物体安装到环境中以进行附加校正时进行设置。
注意
  • 此参数仅适用于球形投影(必须禁用Box Projection选项)。
  • 视差校正不会影响透明物体上的反射。

烘焙设置#

注意
对这些参数进行更改后,请重新获取立方体贴图纹理。
Dynamic

指定反射是否是动态的。

注意
应该启用Dynamic Reflections选项:Rendering -> Features -> Dynamic Reflections
Correct Roughness

为粗糙表面上的Environment Probe反射启用一种校正模式,或禁用校正。可用模式为Low, Medium, High, Ultra-它们在用于在粗糙表面上产生反射的光线数量不同。

注意
可以用来动态模式只要。
Faces Per Frame

多维数据集贴图更新间隔。

注意
可以用来动态模式只要。
  • 1 —每帧仅刷新一张脸。
  • 2 —每帧刷新两张脸。
  • 3 —每帧刷新三张脸。
  • 4 —每帧刷新四张脸。
  • 5 —每帧刷新五张脸。
  • 6 —每帧刷新所有六个面。
Grab by Bake Lighting 指定是否要通过Bake Lighting工具修改立方体贴图纹理。
Reflection Viewport Mask 面具控制将Environment Probe的反射渲染到反射摄影机视口中。
Resolution

反射纹理的分辨率,以像素为单位。

注意
在具有低内存容量的低性能GPU上设置过高的分辨率可能会导致引擎崩溃。
Supersampling 用于图像捕获超采样的每像素采样数。
Mipmaps Quality

mipmap的质量。

注意
在内存容量低的低性能GPU上设置过高的质量可能会导致引擎崩溃。
Near Clipping 到附近的裁剪平面以进行图像捕捉的距离。
Far Clipping

到远剪切平面的距离以进行图像捕获。

注意
近裁剪平面和远裁剪平面之间的极大差异会导致将空间烘焙为黑色。因此,如果所需的“远剪切平面”值不在该范围内,请按比例调整“近剪切”值。
Sky Cutout

裁剪Environment Probe中的天空渲染,并渲染动态反射而不是天空。

注意
当一天中的时间发生变化时,此参数可用于在窗口中呈现天空渐变的变化。
Local Space

Environment Probe启用局部空间(局部坐标)。可用于带有移动物体的场景。

注意
如果计划在烘焙后旋转Environment Probe,则建议使用此参数。
注意
您可以将以下7个可见性选项与添加剂混合在以下方面提供更大的灵活性轻度烘烤。因此,您可以使Environment Probe节点彼此独立,并将它们组合以产生某种动态GI效果。
Visibility Sky 可以烘烤天空的灯光Environment Probe.
Visibility Light World 启用将World Light源烘焙到Environment Probe.
Visibility Light Omni 启用将Omni Light源烘焙到Environment Probe.
Visibility Light Proj 启用将Projected Light源烘焙到Environment Probe.
Visibility Voxel Probe 启用将其他Voxel Probe光源烘焙到Environment Probe.
Visibility Emission 可以烘烤排放光源到Environment Probe.
Visibility Lightmap 可以烘烤光线映射的表面Environment Probe.
Texture

反射的多维数据集纹理。

注意

启用Grab by Bake Lighting模式时,每个烘烤照明过程都会更改在此字段中选择的资产。

您可以将该字段留空,以免丢失内容。在这种情况下,将在烘烤照明过程之后为此参数设置一个新生成的照明纹理。生成的纹理存储在data/bake_lighting文件夹中。

Cutout By Shadow

可以裁剪被障碍物遮挡的反射(位于相对于光源的阴影区域中)。此功能使用深度纹理抓住Environment Probe以确定应该可见的反射。

注意

启用后,下面列出的三个参数(Bias, Normal BiasDepth Texture)可用。

Bias 用于校正Cutout By Shadow功能的场景对象的不精确阴影的偏差。它控制添加到阴影贴图中存储的当前深度值的深度偏移。类似于阴影的Bias参数。
Normal Bias 通过移动阴影所在的表面为Cutout By Shadow特征获得的偏差。曲面沿法线贴图中存储的法线移动。类似于阴影的Normal Bias参数。
Depth Texture

深度纹理,用于剪切障碍物遮挡的反射。

注意
该纹理是静态的,并且每次更改Environment Probe位置或大小时都需要重新生成。

要获取用于裁剪的深度纹理,请执行以下步骤:

  1. 如有必要,将Environment Probe放置在所需位置并调整其大小。
  2. 禁用计算遮挡(阴影)区域时不应考虑的所有节点。
  3. 启用Cutout By Shadow功能,并确保还启用了Grab by Bake Lighting模式。
  4. 单击Show Bake Lighting,然后在出现的窗口中单击Bake Selected Probe
  5. 生成纹理后,可以在运行时启用或禁用裁剪。
注意

启用Grab by Bake Lighting模式和Cutout By Shadow模式时,每个烘烤照明过程都会更改在此字段中选择的资产。

您可以将该字段留空,以免丢失内容。在这种情况下,将在烘烤光照过程之后为此参数设置一个新的生成的深度纹理。生成的纹理存储在data/bake_lighting文件夹中。

最新更新: 2021-12-13
Build: ()